快速退火炉
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概述：
AST2800是一款用高强度可见光加热单片wafer或样片的快速退火系统，其工艺时间短，控温精度高。工艺稳定时间可设置到9999秒，一般推荐1-600秒。
相对于传统的炉管式退火系统，其独特的水冷腔体设计、先进的温度控制技术确保了优越的温度均匀性。工艺时，wafer放置在独立的石英腔体内的石英载盘上，通机械手自动传偏到指定位置，上下两排灯管对wafer进行加热。允许工程师自由创建、编辑工艺菜单,通过调整时间、温度、工艺气体流量等参数，控制工艺流程。
快速退火系统应用:离子注入激活、多晶硅退火、氧化回流、硅化物形成、欧姆接触合金、 氧化物、氮化物生长等工艺。
